Магнетроннае распыленне - гэта новы фізічны метад нанясення паравога пакрыцця, перавагі якога ў многіх аспектах у параўнанні з ранейшым метадам нанясення пакрыццяў з дапамогай выпарвання даволі выдатныя.Як спелая тэхналогія, магнетроннае распыленне ўжываецца ў многіх галінах.
Прынцып магнетроннага распылення:
Артаганальнае магнітнае поле і электрычнае поле дадаюцца паміж распыленым полюсам мішэні (катодам) і анодам, і неабходны інэртны газ (звычайна газ Ar) запаўняецца ў высокавакуумную камеру.Пастаянны магніт утварае магнітнае поле 250-350 Гаўс на паверхні матэрыялу мішэні, а артаганальнае электрамагнітнае поле складаецца з электрычнага поля высокага напружання.Пад уздзеяннем электрычнага поля іянізацыя газу Ar у станоўчыя іёны і электроны, мэта і мае пэўны адмоўны ціск, ад мішэні ад полюса пад дзеяннем магнітнага поля і верагоднасць іянізацыі працоўнага газу павялічваецца, утвараюць плазму высокай шчыльнасці каля катод, іёны Ar пад дзеяннем сілы Лорэнца, паскараюцца, каб ляцець да паверхні мішэні, бамбардуючы паверхню мішэні на высокай хуткасці, распыленыя атамы на мішэні прытрымліваюцца прынцыпу пераўтварэння імпульсу і адлятаюць ад паверхні мішэні з высокай кінетычнай энергіі да плёнкі нанясення падкладкі.
Магнетроннае распыленне звычайна падзяляецца на два віды: напыленне пастаянным токам і радыёчастотнае напыленне.Прынцып абсталявання для распылення пастаяннага току просты, а хуткасць распылення металу высокая.Выкарыстанне радыёчастотнага напылення з'яўляецца больш шырокім, у дадатак да напылення токаправодных матэрыялаў, але таксама распылення неправодных матэрыялаў, а таксама рэактыўнага распылення падрыхтоўкі аксідаў, нітрыдаў і карбідаў і іншых складаных матэрыялаў.Калі частата ВЧ павялічваецца, гэта становіцца мікрахвалевым плазменным распыленнем.У цяперашні час звычайна выкарыстоўваецца мікрахвалевае плазменнае распыленне тыпу электроннага цыклатроннага рэзанансу (ЭЦР).
Матэрыял мішэні для пакрыцця магнетронным распыленнем:
Матэрыял мішэні для напылення з металу, матэрыял для пакрыцця са сплаву для напылення, матэрыял для пакрыцця з керамічнага напылення, матэрыял для мішэні з барыднай керамікі, матэрыял для мішэні з цвёрдасплаўнай керамікі, матэрыял для мішэні з фтарыднай керамікі, матэрыял для мішэні з нітрыднай керамікі, аксідная керамічная мішэнь, матэрыял для мішэні з селеніднай керамікі, матэрыялы для напылення сіліцыднай керамікі, мішэні для напылення з сульфіднай керамікі, керамічныя мішэні для напылення з тэлурыду, іншыя керамічныя мішэні, керамічныя мішэні з аксіду крэмнію, легаваныя хромам (CR-SiO), мішэні з фасфіду індыя (InP), мішэні з арсеніду свінцу (PbAs), арсенід індыя мэта (InAs).
Час публікацыі: 3 жніўня 2022 г